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增强型MOSFET导电沟道的形成是由衬底中的少子产生的()

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第1题
N沟道增强型MOSFET的VGS的作用是形成导电沟道,VDS的作用是使沟道内载流子产生定向移动和产生沟道夹断()
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第2题
N沟道增强型MOSFET的VGS=0时,VDS加正向电压有导电沟道,加反向电压时没有导电沟道()
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第3题
如果 N沟道增强型MOSFET工作在饱和区,则满足iD=Kn()的平方。其中 Kn和 vGS 是常数
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第4题
功率MOSFET依据导电沟道可分为PMOS管和NMOS管。()
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第5题
N沟道增强型MOSFET饱和区工作条件是删源电压VGS大于开启电压VT,漏源电压 VDS 大于 删源电压VGS和开启电压VT之差()
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第6题
场效应晶体管是利用改变平行于导电沟道的电场强度来控制沟道的导电能力而实现放大作用的。()
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第7题
图LP3-3所示电路,P沟道增强型MOSFET的μpCoxW/(2l)= 40μA/V2,VGS(th)=-1 V,若忽略沟道长度调制效

图LP3-3所示电路,P沟道增强型MOSFET的μpCoxW/(2l)= 40μA/V2,VGS(th)=-1 V,若忽略沟道长度调制效应。

(1)试证:对于任意Rs值,场效应管都工作在饱和区。 (2)当Rs为12.5 kΩ时,试求电压VO值。

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第8题
衬源短接的增强型NMOSFET,VDS>0正常开启时,衬底表面电势最低点出现在?()

A.源区

B.沟道区靠近源区一侧

C.沟道区靠近漏区一侧

D.漏区

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第9题
p沟增强型MOS管的开启电压为___,沟道中导电载流子为___。

A.正值,电子

B.正值,空穴

C.负值,电子

D.负值,空穴

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第10题
对n沟增强型MOSFET而言,源极接地,半导体表面达到强反型后,___在沟道中______进行输运。

A.空穴,由源端到漏端

B.空穴,由漏端到源端

C.电子,由源端到漏端

D.电子,由漏端到源端

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