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[主观题]
以下关于氧化沟的正确描述是()
A.单槽氧化沟不需设置回流污泥设施
B.双槽氧化沟是在好氧条件下进行的
C.三槽氧化沟采用双速转刷。使两侧A.C池胶体作曝气池和沉淀池,中间B池为曝气池,免除了污泥回流设施
D.竖轴表曝机氧化沟只用于单槽氧化沟中
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A.单槽氧化沟不需设置回流污泥设施
B.双槽氧化沟是在好氧条件下进行的
C.三槽氧化沟采用双速转刷。使两侧A.C池胶体作曝气池和沉淀池,中间B池为曝气池,免除了污泥回流设施
D.竖轴表曝机氧化沟只用于单槽氧化沟中
A.Carrousel氧化沟不需设置回流污泥设施
B.Orbal氧化沟是在好氧条件下运行的
C.三槽氧化沟可不用污泥回流设施
D.竖轴表曝机氧化沟只用于单槽氧化沟中
A . 氧化沟基本构成包括:氧化沟池体、曝气设备、进出水装置、导流和混流装置
B . 采用氧化沟工艺处理城市污水时,必须设置初次沉淀池
C . 三沟式氧化沟无需设置专门二次沉淀池和污泥回流装置
D . 三沟式氧化沟将曝气、沉淀工序集于一体,并具有按时间顺序交替轮换运行的特点,其运转周期可根据处理水质的不同进行调整