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[主观题]
运用挥发£沉淀长大机理,说明H2还原WO3制取细W粉时应如何控制工艺条件?
运用挥发£沉淀长大机理,说明H2还原WO3制取细W粉时应如何控制工艺条件?
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制备黑膏药时,乳香、没药应在哪道工序中加入
A.炸油
B.细粉加入熬炼的药油中
C.细粉与红丹一起加入油液中
D.待膏熬成,细粉摊涂前投入
E.待膏药摊涂后,细粉撒布于表面
有Ca2+和Mg2+的混合液中,用EDTA,法测定Ca2+时要消除Mg2+的干扰,宜用()。
A.沉淀掩蔽法
B.氧化还原掩蔽法
C.络合掩蔽法
D.控制碱度法