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[主观题]
在蒋森电子双缝干涉实验中，电子加速电压为50kV，缝距约为2μm，屏距为35cm.试计算电子德布罗意波长和干涉条纹
间距.
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A.0.15mm
B.0.2mm
C.O.25mm
D.0.3mm
在双缝干涉实验中，光的波长为600nm(1nm=10-9m)，双缝间距为2mm，双缝与屏的间距为300cm。在屏上形成的干涉图样的明条纹间距为()。
(A) 4.5mm
(B) 0.9mm
(C) 3.1mm
(D) 1.2mm
A.1.00
B.0.50
C.0.25
D.0.45
在双缝干涉实验中，光的波长为600nm(1nm=10-9m)，双缝间距为2mm，双缝与屏的间距为300cm．在屏上形成的干涉图样的明条纹间距为()．
A．0．45mm
B．0．9mm
C．1．2mm
D．3．1mm
在双缝干涉实验中，为使屏上的干涉条纹间距变大，可以采用的办法是()。
(A) 使屏靠近双缝
(B)使两缝的间距变小
(C)把两缝的宽度稍微调窄
(D)改用波长较小的单色光源
A.Dλ/a
B.Dλ/2a
C.2Dλ/a
D.Dλ/4a
A.0．45mm
B.0．9mm
C.9mm
D.4．5mm
A.0．45 mm
B.0．9 mm
C.9 mm
D.4．5 mm
