题目内容
（请给出正确答案）
A.布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生
B.未经登记的布图设计不受集成电路布图设计保护条例的保护
C.无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起10年后，不再受集成电路布图设计保护条例的保护
D.布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记
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A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性
B.集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生
C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等
D.集成电路布图设计专有权的保护期为十五年
A.10年，自布图设计创作完成之日起计算
B.15年，自布图设计登记申请之日起计算
C.15年，自布图设计首次投入商业利用之日起计算
D.10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算
A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性
B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感
C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念
D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作
A、《集成电路布图设计保护条例》
B、《集成电路布图设计保护法》
C、《专利法》
A.自收到通知之日起3个月内，向国家知识产权局申请行政复议
B.自收到通知之日起3个月内，向国家知识产权局申诉
C.自收到通知之日起3个月内，向国家知识产权局请求复审
D.自收到通知之日起3个月内，向人民法院提起行政诉讼
